BAO Mask Avenger 2 - 单独控制蒙版顶点（和切线）

版本 2 中的新增功能

•保存 RAM 预览。上一版本最大的问题是Ram预览失效。

使用插件。新的烘焙系统Mask Avenger 2.0避免了这种情况。

•3D蒙版。 Mask Avenger 现在以 3D 方式控制蒙版，无需使用空图层和表达式。

蒙版计算速度更快，表达式更易于编写。

•背景烘焙。当需要更改蒙版时，Mask Avenger 会立即将其转换为当前时间，并在后台烘焙工作区的其余部分。这意味着当面具复仇者忙于烘烤时，您可以继续工作

。这取代了动态和烘焙模式。

•模具层的兼容性更好。与“动态”模式相关的错误已在新的烘焙系统中消失。

•工作空间和图层持续时间不再影响 Mask Avenger 的计算速度。当然，

烘焙 100,000 个关键帧需要的时间超过 10 个，但新的烘焙系统允许您在烘焙时继续工作

。

•不再需要在蒙版渲染器中。 Mask Avenger 现在使用 AE 自己的遮罩功能并且速度更快。

•遮罩预览。 Mask avenger 2.0 有一个预览系统，可以在将更改应用于蒙版之前动态地向您显示更改

。这可以避免蒙版被表达式、其他图层或相机修改时出现延迟。

单独控制蒙版的每个顶点

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•关键帧、柔化、表达式和 3D 空间。

•您可以仅使用顶点或完全控制切线。

•集成脚本帮助您使用表达式并将蒙版与空图层相关联。

•使用简单的拾取鞭表达式将蒙版顶点与跟踪点相关联。

•使用冻结模式与用户共享您的项目，没有 Mask Avenger。

•智能插值模式：根据重心或独立关键锚点保持体积。

•与自由变换蒙版工具集成。< /p >

•遮罩读取器：读取遮罩路径上任意点的位置和方向数据。

•Avenger Shape：将 Avenger 遮罩应用于图层形状。

•Mask Avenger 是本机 After Effects 插件。